Deposição de filmes de TiO2 usando plasma em gaiola catódica
Gaiola-catódica.Plasma. Filmes finos; TiO2
O titânio é um dos materiais mais estudados ao formar óxidos que podem ser empregados como filmes em aplicações biomédicas, óticas e eletrônicas. O presente trabalho, objetiva o uso da técnica de plasma por gaiola catódica, como alternativa, para deposição de filmes de TiO2 em substrato de vidro. O processo de deposição será realizado em um reator de baixa pressão (0,6 mbar) a 350°C em tempos (1, 3, 5, e 8h) e atmosferas gasosas diferentes (Argônio e Oxigênio). A análise dos filmes será feita por meio de DRX, Molhabilidade, MEV e medidas de transmitância e absorbância. Com isso, espera-se analisar que efeitos as variações de temperatura e de atmosfera gasosa podem influenciar na taxa de deposição do método, na espessura e nas propriedades ópticas dos filmes formados.