Deposição de Filmes de TiO2 usando plasma em gaiola catódica
Gaiola-Catódica. Plasma. Filmes Finos. Anatase. Rutilo.
Óxidos de titânio são muito estudados devido sua importância em aplicações tribomecânicas, biomédicas, ópticas e eletrônicas. Pesquisas em novas tecnologias que ampliem e/ou reduzam custos estão sendo constantemente buscadas. No presente trabalho foi utilizada uma técnica alternativa de deposição de filmes, denominada de
plasma por descarga em gaiola catódica (PDGC), visando estudar a influência dos parâmetros do processo sobre as características do filme. Utilizou-se como substrato o vidro. O processo de deposição foi realizado num reator, mantendo fixos a pressão e temperatura. Utilizou-se diferentes concentrações da mistura Ar-O2 para a atmosfera do plasma e tempos de deposição variando de 1h-8h. Os filmes obtidos foram caracterizados quanto à molhabilidade, fases cristalinas, microestrutura, transmitância e absorbância óptica. Verificou-se que houve a formação de dióxido de titânio em todas as amostras, com predominância da estrutura rutilo. A espessura dos filmes cresceu proporcionalmente ao tempo de deposição e fluxo de oxigênio, com taxa de deposição entre 1,93 e 6,07 nm/min. Verificou-se que o processo de deposição por gaiola catódica foi eficaz e que nessas condições produziu filmes de TiO2 com propriedades que podem ser aplicadas em superfícies autolimpantes e fotocatalíticas.